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等离子体清洗的类别

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编辑时间 : 2020-06-08
信息标签 : 在线等离子清洗机

最基本的等离子体清洗设备由四大部分组成,即激发电源、真空泵、真空腔、反应气体源。激发电源是提供气体放电能量来源的电源,可以采用不同的频率;真空泵的主要作用是抽走副产品,包括旋片式机械泵或增压泵;真空腔内带有放电电离的电极,将反应气体变成等离子体;反应气体源一般采用的气体有氩、氧、氢、氮、四氯化碳等单一气体,或两种气体混合使用。有许多因素支配着等离子体清洗的效用,这些因素包含化学性质的选择、制程参数、功率、时间、零件放置及电极构造。不同的清洗用途所需要的设备结构、电极接法、反应气体种类是不同的,其工艺原理也有很大区别,有的是物理反应,有的是化学反应,有的是物理化学两种作用都产生,反应的有效性取决于等离子体气源、等离子系统的组合及等离子工艺操作参数。表1示出半导体生产中等离子工艺的选择及应用,等离子体腐蚀、等离子体去胶较早被半导体生产前部工序采用,利用常压辉光冷等离子体所产生的活性物质对有机沾污和光刻胶进行清洗,是替代湿化学清洗方法的一种绿色手段。

在线等离子清洗机
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