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引线框架在当今的塑封中仍占有相当大的市场份额,其主要采用导热性、导电性、加工性能良好的铜合金材料制作引线框架。但铜的氧化物及其他一些污染物会造成模塑料与铜引线框架分层,并影响芯片粘接和引线键合质量,确保引线框架清洁是保证封装可靠性的关键。研究表明,采用氢氩混合气体,激发频率13.56MHz,能够有效地去除引线框架金属层上的污染物,氢等离子体能够去除氧化物,而氩通过离子化能够促进氢等离子体数量的增加。
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